Mise à jour : 2/09/10
  1. S'inscrire à la newsletter
  2. Accueil
Logo

  Catalogue 2010
Catalogue 2010
Version du28/07/09

 • Accés par mots-clés

Accés à la recherche 'Full Texte' du catalogue 2010 de CNRS Formation Entreprises.
A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z

 • Accés par axes


   I) Electronique
 
Bases pour la conception et la mesure en hyperfréquences (2010-I-01)  
  Objectif : Acquérir les notions de base utilisées en conception et mesure des circuits hyperfréquences en mettant en oeuvre les outils associés : station de travail, analyseur de réseau vectoriel et analyseur de spectre. En savoir plus
ORSAY
Institut d'Electronique Fondamentale - CNRS UMR 8622
Centrale Technologique Universitaire
Terminé

 
Conception et caractérisation des circuits hyperfréquences (2010-I-02)  
  Objectif : Acquérir les notions de base utilisées en conception et mesure des circuits hyperfréquences en mettant en oeuvre les outils associés : station de travail, analyseur de réseau vectoriel et analyseur de spectre. En savoir plus
ORSAY
Institut d'Electronique Fondamentale - CNRS UMR 8622
Centrale Technologique Universitaire
Terminé

 
Physique des semi-conducteurs (2010-I-03)  
  Objectif : Acquérir les bases théoriques utiles à la compréhension des mécanismes mis en jeu dans le fonctionnement des composants semi-conducteurs. En savoir plus
ORSAY
Institut d'Electronique Fondamentale - CNRS UMR 8622
Centrale Technologique Universitaire
Terminé

 
Initiation aux micro et nanotechnologies, à la microscopie à force atomique et à la lithographie électronique (2010-I-04)  
  Objectif : Initier les participants aux techniques mises en oeuvre dans le cadre de réalisation de dispositifs en micro et nanotechnologie et aux méthodes de caractérisation structurale associées. En savoir plus
ORSAY
Institut d'Electronique Fondamentale - CNRS UMR 8622
Centrale Technologique Universitaire
<-13/09/10

 
Procédés de lithographie : mise en œuvre expérimentale et optimisation, application aux objets submicroniques (2010-I-06)  Nouveau
  Objectif : Pratique des méthodes de lithographie électronique, optique et par UV-NIL,
Permettre aux stagiaires de cerner les avantages et limites de chaque technique, et de mieux appréhender leur futur développement technologique. En savoir plus
ORSAY
Institut d'Electronique Fondamentale - CNRS UMR 8622
Centrale Technologique Universitaire
<-11/10/10

 

CNRS Formation Entreprises - Avenue de la Terrasse - Bât. 31 - 91198 Gif-sur-Yvette Cedex
Tél. 01 69 82 44 55 - Fax 01 69 82 44 89